«За пределами EUV»: Lace Lithography готовит литографию на атомах гелия с разрешением 0,1 нм

Норвежский стартап Lace Lithography при поддержке Microsoft привлёк $40 млн в рамках первого раунда финансирования для разработки литографического сканера, использующего пучок атомов гелия при обработке кремниевых пластин. Компания утверждает, что её технология позволит создавать элементы чипов в 10 раз меньшего размера, чем существующие системы литографии, с шириной пучка всего 0,1 нм — EUV-сканеры ASML используют излучение с длиной волны 13,5 нм.

Компьютер месяца, спецвыпуск: эпоха отката, или Как дефицит чипов памяти влияет на выбор железа для игрового ПК

Обзор Ryzen 7 9850X3D: три процента за двадцать баксов

Обзор Samsung Galaxy Z TriFold: тройной складной смартфон по цене квартиры в Воркуте

Ryzen и 16 Гбайт DDR5: как сэкономить на памяти так, чтобы не лишиться 15 % производительности

Обзор ноутбука HONOR MagicBook X16 2026: как раньше, только лучше

Гид по выбору OLED-монитора в 2026 году: эволюция в деталях

Обзор Apple MacBook Neo: удивительно хороший ноутбук с процессором от iPhone

Преимущество системы Lace в том, что атомы не имеют дифракционного предела, в то время как фотонная литография, включая системы EUV от ASML, ограничена длиной волны используемого света. По мере того, как производители микросхем уменьшают размеры элементов, они полагаются на все более сложные методы многослойного формирования шаблона, чтобы обойти это ограничение, но Lace использует другой подход, заменяя фотоны нейтральными атомами гелия и пучком, ширина которого примерно равна ширине одного атома водорода.

Lace описывает свои системы как BEUV, или Beyond-EUV («за пределами EUV»). Генеральный директор и соучредитель Lace Бодил Хольст (Bodil Holst) заявила, что разработанная компанией технология позволит производителям микросхем печатать пластины с «в конечном итоге атомным разрешением». Научный директор по литографии Imec Джон Петерсен (John Petersen) считает, что этот подход может уменьшить транзисторы и другие элементы на порядок, до «почти невообразимой» степени.

Lace присоединилась к растущему числу стартапов, разрабатывающих альтернативы передовой литографии ASML. Американские компании Substrate и xLight разрабатывают источники света на основе ускорителей частиц для EUV- или рентгеновской литографии, при этом xLight получила $150 млн государственного финансирования США. Canon поставила свой первый инструмент для наноимпринтной литографии в Техасский институт электроники ещё в сентябре 2024 года, а китайская компания Prinano недавно представила собственную систему наноимпринтной литографии на внутреннем рынке.

Однако подход Lace отличается от всех этих компаний. В то время как Substrate и xLight по-прежнему используют фотоны, Lace полностью отказывается от электромагнитного излучения. Хотя Lace уже создала прототипы системы, разрыв между лабораторией и производством, как всегда, огромен. В настоящее время компания планирует развернуть испытательный стенд на пилотном предприятии к 2029 году, а сроки перехода к серийному производству пока не называются.

Стоит отметить, что ASML потратила десятилетия и миллиарды долларов на превращение EUV-литографии из исследовательской концепции в коммерческий продукт. В Lace в настоящее время работает более 50 человек в Норвегии, Испании, Великобритании и Нидерландах, а первые результаты своих исследований компания впервые представила на конференции SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026.